光刻机是干什么用的 ?
光刻机是干什么用的 ? 光刻胶涂布设备 – 光刻胶涂布机 – 驰飞超声波喷涂
光刻机（Mask Aligner) ，又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中，光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂，但可以概括为几大步骤：
硅片的制备–>外延工艺–>热氧化–>扩散掺杂–>离子注入–>薄膜制备–>光刻–>刻蚀–>工艺集成等。
而光刻工艺是制造流程中最关键的一步，光刻确定了芯片的关键尺寸，在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。光刻（photolithography）工艺是将掩膜版（光刻版）上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。首先光刻胶处理设备把光刻胶旋涂到晶圆表面，再经过分步重复曝光和显影处理之后，在晶圆上形成需要的图形。
通常以一个制程所需要经过掩膜数量来表示这个制程的难易。根据曝光方式不同，光刻可分为接触式、接近式和投影式；根据光刻面数的不同，有单面对准光刻和双面对准光刻；根据光刻胶类型不同，有薄胶光刻和厚胶光刻。而光刻机本身按照应用可以分为几类，用于制造芯片的光刻机，用于封装的光刻机和应用于LED制造领域的投影光刻机。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
一般的光刻流程包括底膜处理、涂胶、前烘、对准曝光、显影、刻蚀，去胶光刻检验等，可以根据实际情况调整流程中的操作。
超声喷涂系统可以使用先进的喷涂技术来精确控制流速、镀膜速度和沉积量。低速喷涂成型将雾化喷涂定义为精确，可控的图案，在生产非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。事实证明，使用超声波技术进行喷涂是在3D微结构上沉积光致抗蚀剂的可靠且有效的方法，从而减少了由于过多的金属暴露于蚀刻剂而导致的设备故障。
超声波喷涂系统已被证明适用于需要均匀、可重复的光致抗蚀剂或聚酰亚胺薄膜涂层的各种应用。杭州驰飞的喷涂系统可以控制从亚微米到100微米以上的厚度，并且可以涂覆任何形状或尺寸。它是其他涂层技术（例如旋涂和传统喷涂）的可行替代方案。
杭州驰飞的无阻塞超声涂层技术以其功能性和保护性材料的超薄微米涂层而闻名。喷嘴的超声振动有效地将颗粒分散在悬浮液中，并在薄膜层中产生非常均匀的颗粒分散，而导电颗粒没有从悬浮液中沉降出来。
在过去的十年中，对半导体进行了直接喷涂光刻胶涂层，并且对喷涂结果进行了深度研究，超声喷涂的光刻胶涂层显示出优于传统的旋涂。超声波喷涂是一种简单、经济和可重复的工艺，用于光刻晶圆加工中的喷涂光刻胶涂层。超声波喷涂系统可对流速、沉积速度和沉积量进行精细控制。低速喷雾成形，避免过喷，同时产生非常薄且均匀的涂层。
