喷涂光刻胶涂层系统
喷涂光刻胶涂层系统 – 半导体喷涂机 – 超声波雾化喷涂 – 驰飞超声波喷涂
UAM6000超声波喷涂光刻胶涂布系统是工业级喷涂设备，可满足中小批量生产需求。 采用国家专利超声波喷涂技术，制备均匀可控的光刻胶薄膜涂层，应用于喷涂热解领域。
1.厚度范围1-100μm
2.均匀度±5%
3. 涂布面积/基材尺寸 300×300 mm / 350×350 mm
4. 相容粘度 < 25 cps (依厚度而定)
5、涂装温度范围150℃
6. UAM6000机器可以在真空/惰性气氛中进行涂装。
7.喷嘴可定制性
8. 喷嘴旋转/倾斜可用？ 有两种不同功能的喷嘴。 倾斜：聚焦式喷嘴； 旋转方式：宽型喷嘴
9.底座旋转可选
10. 液体输送系统
