超声波半导体芯片喷涂 - 光刻胶喷涂 - 杭州驰飞超声波

超声波半导体芯片喷涂


半导体芯片:在半导体片材上进行浸蚀,布线,制成的能实现某种功能的半导体器件。

涂层液体:光刻胶又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的混合液体。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理,溶去可溶性部分,得到所需图像。



超声波优势:光刻胶喷涂需要非常的均匀,并且涂层厚度在20-30um范围。超声波对比传统高压喷厚度可控,并且均匀程度更好。

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