光刻胶超声涂层系统
光刻胶超声涂层系统 – 半导体喷胶 – 光刻胶涂层制备 – 驰飞超声波喷涂
新的光刻胶超声涂覆系统是专门设计的，以满足涂覆高纵横比和深井形貌（如MEMS晶片）的独特挑战。驰飞在MEMS和其他半导体晶片衬底上沉积光刻胶方面拥有广泛的应用专业知识。
光致抗蚀剂超声涂覆系统取代了传统的旋涂设备，在难以涂覆的应用中为侧壁提供更均匀的覆盖。超声波喷涂已用于光致抗蚀剂沉积多年，是半导体光刻制造的一种行之有效的方法。
我们的超声波涂层解决方案环保、高效且高度可靠，能够大幅减少过度喷涂，节省原材料、水和能源使用，并提供改进的工艺重复性、传输效率、高均匀性和减少排放。
杭州驰飞是超声镀膜系统开发商和制造商，产品主要应用于燃料电池质子交换膜喷涂、薄膜太阳能电池、钙钛矿、微电子、半导体、 纳米新材料、玻璃镀膜、 生物医疗、纺织品等领域。
