超声波高精度喷涂设备 - 节能光刻胶的超声波雾化喷涂制备

摘要：光刻胶的技术复杂，品种较多。将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。由于传统光刻胶薄膜制各多采用旋涂工艺，约95％的光刻胶浪费，且光刻胶本身有毒又价格昂贵，成本浪费和环境污染问题严重。本文会介绍一种超声波高精度喷涂设备用以提高光刻胶的利用率。

关键词：光刻胶；喷涂；超声波雾化喷涂；驰飞超声波

光刻胶又称光致抗蚀剂，是由感光树脂、增感剂和溶剂等组成的光敏感混合液体，在集成电路、太阳能光伏、微机电系统等领域应用广泛。为了获得高均匀性的光刻胶薄膜，多采用旋转涂胶工艺。利用旋转涂胶工艺所获得的光刻胶薄膜厚度是由光刻胶的粘度、表面张力和转盘的旋转角速度等因素来决定的，绝大多数的光刻胶因旋转涂胶时的离心力被甩离晶圆表面，造成浪费，光刻胶利用率极低。

针对光刻胶现下涂覆工艺旋转涂胶工艺的浪费和环境污染问题，驰飞超声波在自行开发的120KHZ的超声波雾化喷涂设备的基础上，对光刻胶喷涂工艺进行改进。超声波雾化喷涂设备电源功耗（10W）低，产生的雾化液滴平均粒径小、均匀性好，液滴直接喷涂在晶圆表面上，光刻胶利用率高，因此被认为是一种绿色的光刻胶薄膜制备工艺。普通超声波雾化喷涂设备表面的雾化液滴初始速度小，易于受到周围空气的扰动，不利于获得高质量的光刻胶薄膜，难以实现理想的喷涂效果。为此，驰飞超声波在超声波雾化喷涂设备中加入载气模块用于增加雾化液滴的动力，控制雾化喷涂方向和范围，实现光刻胶薄膜的定向喷涂于基底的晶圆表面。

驰飞超声波自主研制的超声波高精度喷涂设备能够实现光刻胶的定向喷涂，节约原料可节约90%的光刻胶原料，从而避免了环境污染和后续处理的步骤。目前，是光刻胶喷涂为先进的工艺。

技术参数

	全自动超声波喷涂设备
频率	40khz—120khz
材质	工具头钛合金+外壳不锈钢
喷涂颗粒直径	≥0.6pl
适用粘度	≤50cPs
适用温度范围	40℃以内
适用酸碱度范围	Ph4-11
涂层厚度	0.6μm—10μm
可喷涂形状	平面或圆周面
单次喷涂直径范围	3mm—80mm
喷涂速度	以试管为例每小时1000管
固体含量范围	≤10%
是否加气	是
若加气气压范围	0.1μpa—0.3μpa
控制系统	六轴控制系统
整机尺寸	130010001800mm
整机重量	300kg
工作电压	220V
安装孔径	≥25mm
注射进液	≥0.3ml/min
耗电用量	0.2A
额定功率	3kw

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