用于光刻胶沉积的超声波涂层系统
用于光刻胶沉积的超声波涂层系统 – 晶圆喷涂 – 驰飞超声波喷涂
驰飞超声波喷涂设备已用于在半导体晶片上涂覆光刻胶膜涂层。随着高纵横比MEMS和传感器制造业的不断扩大，驰飞开发了一套光刻胶薄膜涂层，克服了将光刻胶均匀覆盖在具有深沟道或困难地形的晶片上的挑战。UAM6000是根据客户反馈设计的，专为应对这些独特挑战而设计。该系统取代了传统的旋涂技术，以光刻胶消耗量的一小部分提供了更均匀的侧壁和角部沉积覆盖。超声波喷涂是一种经过验证的半导体光刻制造方法，在全球数百台机器中使用。
我们的超声波涂层解决方案环保、高效且高度可靠，能够大幅减少过度喷涂，节省原材料、水和能源使用，并提供改进的工艺重复性、传输效率、高均匀性和减少排放。
我们公司专注于超声波技术20多年。我们为新能源、电子、医疗、纳米等功能涂层行业提供一系列标准超声波机和定制解决方案。我们很乐意与能源行业的公司合作，为新能源行业开发新的解决方案，实现双赢。
